အီလက်ထရွန်းနစ်အရောအနှော

အီလက်ထရွန်းနစ်ရောစပ်ဓာတ်ငွေ့များကို အကြီးစားပေါင်းစပ်ဆားကစ်များ (LSI)၊ အလွန်ကြီးမားသော ပေါင်းစပ်ဆားကစ်များ (VLSI) နှင့် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်ခြင်းများတွင် တွင်ကျယ်စွာအသုံးပြုပါသည်။ ၎င်းတို့ကို ဓာတ်ငွေ့အဆင့် epitaxy (ထုတ်လုပ်မှု)၊ ဓာတုအခိုးအငွေ့များ စုပုံခြင်း၊ ညစ်ညမ်းခြင်း ( impurity diffusion )၊ အမျိုးမျိုးသော etching နှင့် ion implantation လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် အဓိကအားဖြင့် အသုံးပြုကြသည်။

အီလက်ထရွန်းနစ်ရောစပ်ဓာတ်ငွေ့ အနှစ်ချုပ်မရှိပါ။

1. Dichlorosilane (DCS) 5000ppm+N2; Dichlorosilane (DCS) 15ppm+N2

2 dichlorosilane (DCS) 10ppm+trichlorosilane (TCS) 10ppm+ဟီလီယမ်

3 HCI 50ppm+dichlorosilane (DCS) 1000ppm+ မျှခြေ He

4 Silane 1%+Dichlorosilane (DCS) 1%+Trichlorosilane (TCS) 1%+Tetrachlorosilane 1%+နိုက်ထရိုဂျင်

5 Silane 50ppm+Trichlorosilane (TCS) 1000ppm+He

6 Trichlorosilane (TCS) 15ppm+N2

7 Ethylsilane (Si2H4) 100ppm ~ 200ppm+H2

8 Ethylsilane 10ppm+He

9 CO2 5ppm+silane 135ppm+ethylsilane 1000ppm+He

10 SiH4 5ppm~15%+Ar (H2/N2/He)

11 H2 5ppm+Ar 5ppm+N2 5ppm+CO 5ppm+CH4 5ppm+Equilibrium သူသည် CO2 5ppm+silane 1000ppm

12 Ethylborane 50-100ppm+H2

13 Arsenane 100ppm~0.7%+H2

14 ဂျာမန် 1%~10%+H2

15 ဘိုရွန်ထရစ်ကလိုရိုက် 1%~5%+N2 (သူ)

16 PH3 0.8ppm~500ppm+He (H2)

17 HCI 9ppm~50%+N2

18 NF3 99.99% 180g~1500g

19 NF3 20ppm~30ppm+လေ

20 NF3 15ppm+N2

21 CF4 80%+O2

22 Ar 5ppm~80%+Ne (H2/He/N2)

DKK 23 8%~50%+နှစ်

24 No 80%~97%+Ar